
| Camada | Modelo/Especificação Recomendados | Parâmetros-chave | Observações |
|---|---|---|---|
| Chip Bump | Microbump de alto teor de chumbo 95Pb5Sn (C4) ou SAC305 | Diâmetro: 60–100 µm; Altura: 50–80 µm; Passo: 80–150 µm | Os eletrodos com alto teor de chumbo têm um ponto de fusão de 320 °C e podem suportar altas temperaturas em processos subsequentes; os eletrodos sem chumbo requerem refluxo a vácuo para evitar vazios. |
| UBM (Metalização sob o bump) | Ti/Cu/Ni/Au ou Al/Ni(V)/Cu | Espessura total: 0.5–1.0 µm; Camada de Ni: 0.3 µm (impede a difusão) | Determina a resistência ao cisalhamento de impacto ≥ 6 g/impacto (de acordo com JEDEC JESD22-B117) |
| Suporte/Substrato | ① Núcleo de resina BT (ABF GX-13); ② Sem núcleo + Reforço | Dk: 3.4 a 10 GHz; Df: 0.004; CTE: 11–13 ppm | Largura/espaçamento mínimo da linha: 12 µm/12 µm |
| Camada dielétrica acumulada | ABF GX-92 ou Panasonic R-1515 | Espessura: 5 µm; Diâmetro do furo perfurado a laser: 40 µm | Compatível com vias a laser de 40 µm |
| máscara de solda | Tinta LDI preta fotossensível | Espessura: 15–20 µm; Resolução: 25 µm; Suporta 288 °C por 10 s | Impede que o fluxo contamine as saliências. |
| Processo | Espessura | Vantagens em FC | Limitações |
|---|---|---|---|
| ENEPIG (ouro de imersão em paládio eletroless de níquel eletrolítico) | Ni 3–5 µm + Pd 0.05–0.1 µm + Au 0.03–0.05 µm | Compatível com terminais de alta/baixa concentração de chumbo; adequado para ligação de fios e soldagem; resistente ao níquel preto. | Custo mais elevado; requer controle da espessura do paládio. |
| ENIG (ouro de imersão em níquel não eletrolítico) | Ni 3–5 µm + Au 0.05 µm | Adequado para FC-BGA convencional; planicidade < 0.3 µm | Risco de níquel preto; propenso à fragilização em processos de refluxo com alto teor de chumbo. |
| Estanho de imersão (ImSn) | 0.8-1.2 µm | Compatível com saliências SAC; IMC interfacial fino; poucos vazios | Prazo de armazenamento: 6 meses; propenso ao crescimento de filamentos de estanho. |
| OSP (preservativo orgânico de soldabilidade) | 0.15-0.3 µm | Ideal para placas híbridas RF-FC; perda mínima do efeito pelicular. | Não resistente a múltiplos ciclos de alta temperatura; limitado a uma única refusão. |
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