
| Matériel/Système | Épaisseur typique | Performance clé | Aptitude au perçage laser | Résumé en une ligne |
| Construction FR4 (IPC-4104 /21-/25) | 50 à 100 µm | Tg 150–170 °C, Dk≈4.2 | Verre ≤50 µm, perçable au laser | HDI 1+N+1 au coût le plus bas |
| RCC (cuivre revêtu de résine) | 40 à 80 µm | Sans verre, Dk≈4.0, Df≈0.015 | Excellent (aucune obstruction du verre) | Premier choix pour les vias borgnes laser, carte mère de téléphone |
| Film LCP | 25 à 50 µm | Dk=2.9, Df=0.002 à 10 GHz | Excellent (fond sous laser) | Antenne à ondes millimétriques, SerDes haute vitesse |
| Film d'accumulation PI | 25 à 50 µm | Tg ≥ 250 °C, soudable à 300 °C | Bon (verre bas) | aérospatiale/médicale HDI haute fiabilité |
| Mélange BT/époxy | 60 à 100 µm | Tg 180–220 °C, faible coefficient de dilatation thermique Z | Verre mince, perçable au laser | substrats d'encapsulation de puces (FC-BGA) |
| Paramètre de processus | Échantillon | Lot |
|---|---|---|
| Couches | 50L | 40L |
| Épaisseur du panneau fini | 0.2-18.0mm | 0.3-10.0mm |
| Tolérance d'épaisseur de panneau | ± 8% | ± 8% |
| Largeur/espacement minimal des lignes | 1.5 mil/1.5 mil | 2 mil/2 mil |
| Espacement minimal entre les trous et les lignes | 5 mille | 5 mille |
| Taille de traitement maximale | 1200 mm * 600 mm | 570 mm * 760 mm |
| Taille minimale finie | 5 mm * 5 mm | 50 mm * 50 mm |
| Épaisseur de cuivre | 1/3 oz-12 oz | 1/3 oz-8 oz |
| Précision de l'alignement couche à couche | 0.8 mille | 1 mille |
| Diamètre minimal du trou traversant | 0.075 mm | 0.1 mm |
| Diamètre minimal du trou borgne | 0.05 mm | 0.075 mm |
| Format d'image maximal | 35:1 | 30:1 |
| Tolérance de gravure | ±10%/±0.8 mil | ±10%/±1 mil |
| Pont de masque de soudure minimal | 2 mille | 3 mille |
| Tolérance de contrôle d'impédance | ± 5% | ± 7% |
| Commande HDI | 8ème commande | 5ème commande |
| Processus de finition de surface | ENIG, E-Gold, HASL, Ni-Pd-Au, E-Gold épais, ImSn, ImAg, OSP, etc. | ENIG, E-Gold, HASP, Ni-Pd-Au |
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