
| Kategorie | Empfohlenes Modell/Spezifikation | Parameter | Bemerkungen |
|---|---|---|---|
| Substrat | ① Kernlose BT-Aufbauplatine (ABF GX-13); ② Niedertemperatur-Keramik (LTCC) | Dk: 3.4 bei 10 GHz; Df: 0.004; CTE: 11–13 ppm; LTCC unterstützt eingebettete passive Bauelemente | Minimale Linienbreite/-abstand: 12 µm/12 µm; unterstützt 4–6 Aufbauschichten |
| Dielektrische Aufbauschicht | ABF GX-92 / Panasonic R-1515 | Dicke: 5 µm; Durchmesser des lasergebohrten Lochs: 40 µm | Kompatibel mit FC-Mikro-Bump-Systemen |
| Kupferfolie | Rückwärtsbehandelte Folie (RTF) ≤ 1 oz | Oberflächenrauheit (Ra) ≤ 2 µm; geringe Hochfrequenzverluste | Geeignet für Millimeterwellen-SiP |
| Verkapselungskleber | ① Spannungsarmes Epoxidharz (EP-121); ② Hochtransparentes Silikon (OE-6650) | Wärmeausdehnungskoeffizient (CTE): 26 ppm; Glasübergangstemperatur (Tg): 120–140 °C; Lichtdurchlässigkeit: ≥ 90 % | Wird für die Top-Potting- oder lokale Verkapselung verwendet |
| Wärmeleitmaterial | Silikonpad oder Wärmeleitpaste (2–5 W/m·K) | Dicke: 0.1–0.2 mm; Durchschlagsfestigkeit: ≥ 3 kV | Wird zwischen dem Gehäuse und dem Kühlkörper verwendet. |
| Gebiet | Prozesskombination | Materialstärke | Zweck |
|---|---|---|---|
| Gesamter Vorstand | ENEPIG (stromloses Nickel, stromloses Palladium-Immersionsgold) | Ni 3–5 µm + Pd 0.05 µm + Au 0.03 µm | Kompatibel mit FC-Mikrobumps, Golddrahtbonden und SMT-Bestückung |
| Hochfrequenzantennenbereich | OSP (Organisches Lötbarkeitskonservierungsmittel) oder ImAg (Immersionssilber) | 0.15–0.3 µm | Minimaler Hauteffektverlust; Millimeterwellen-Einfügungsdämpfung < 0.2 dB/Zoll |
| Kantenverbinder | Selektive Hartvergoldung | Ni 3–5 µm + Au 0.5–1.5 µm | Einführlebensdauer ≥ 10,000 Zyklen |
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