
| Schicht | Empfohlenes Modell/Spezifikation | Parameter | Bemerkungen |
|---|---|---|---|
| Substrat | FR-4 mit hoher Tg (z. B. Shengyi SY-1140, Taiguang TU-872) | Glasübergangstemperatur (Tg) ≥ 170°C, thermische Zersetzungstemperatur (Td) ≥ 340°C | Es muss nacheinander Reflow- und Wellenlöten durchlaufen, daher muss die Hitzebeständigkeit des Materials beiden Verfahren entsprechen. |
| Kupferfolie | Rückwärtsbehandelte Folie (RTF) (≤ 3 oz) | Oberflächenrauheit (Ra) ≤ 4 μm, Dehnung ≥ 25 % | Erfüllt die Anforderungen der SMT-Feinschaltungsfertigung und der THT-Hochstrombelastbarkeit |
| Lokale thermische dielektrische Schicht | TC-350, IT-180A | Wärmeleitfähigkeit: 2-3 W/m·K, Wärmeausdehnungskoeffizient (CTE): 13-15 ppm/°C | Wird zur lokalen Laminierung unter Leistungsbauteilen zur Verbesserung der Wärmeableitung verwendet. |
| Lötmaskentinte | Halogenfreie schwarze Laser Direct Imaging (LDI)-Tinte | Hält einer hohen Temperatur von 288 °C für 10 Sekunden stand, Härte ≥ 6H | Verhindert das Ablösen der Tinte durch Stöße während des Heißluftnivellierungsprozesses (HAL). |
| SMT-Klebstoff (für Klebefixierung + Wellenlötverfahren) | EP-138 wärmehärtender Klebstoff | Härtet bei 150 °C für 90 Sekunden aus, Scherfestigkeit ≥ 15 MPa | Wird nur beim Verfahren „Klebefixierung von SMT-Bauteilen + Wellenlöten“ verwendet und wurde bei reinen SMT-Prozessen eliminiert. |
| Gebiet | Prozesskombination | Materialstärke | Zweck |
|---|---|---|---|
| Gesamter Vorstand | ENIG (Elektroloses Nickel-Immersionsgold) | Ni 3–5 μm + Au 0.05 μm | Ebene Oberfläche der SMD-Bereiche (Surface Mount Device), geeignet für Drahtbonden |
| Große Pads/Stromversorgungsbereiche | HAL-LF (Bleifreie Heißluftnivellierung) | SnCu 1–2 μm | Gute Benetzung der Lochwände, niedrige Kosten |
| Goldfinger | Selektive Hartvergoldung | Ni 3–5 μm + Au 0.5–1.5 μm | Verschleißfest, mit ≥ 10,000 Einsteckzyklen |
| HF-Mikrostreifen | OSP (Organisches Konservierungsmittel für die Lötbarkeit) | 0.2–0.3 μm | Minimaler Hauteffektverlust |
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