
| Schicht | Empfohlenes Modell/Spezifikation | Parameter | Bemerkungen |
|---|---|---|---|
| Chip Bump | Hochbleihaltige 95Pb5Sn (C4)- oder SAC305-Mikro-Bump-Elektroden | Durchmesser: 60–100 µm; Höhe: 50–80 µm; Teilung: 80–150 µm | Hochbleihaltige Bumps haben einen Schmelzpunkt von 320 °C und sind in nachfolgenden Prozessen temperaturbeständig; bleifreie Bumps erfordern ein Vakuum-Reflow-Verfahren, um Lufteinschlüsse zu vermeiden. |
| UBM (Under-Bump-Metallisierung) | Ti/Cu/Ni/Au oder Al/Ni(V)/Cu | Gesamtdicke: 0.5–1.0 µm; Ni-Schicht: 0.3 µm (verhindert Diffusion) | Bestimmt die Scherfestigkeit der Erhebungen ≥ 6 g/Erhebung (gemäß JEDEC JESD22-B117) |
| Träger/Substrat | ① BT-Harzkern (ABF GX-13); ② Kernlos + Aufbau | Dk: 3.4 bei 10 GHz; Df: 0.004; CTE: 11–13 ppm | Minimale Linienbreite/Linienabstand: 12 µm/12 µm |
| Dielektrische Aufbauschicht | ABF GX-92 oder Panasonic R-1515 | Dicke: 5 µm; Durchmesser des lasergebohrten Lochs: 40 µm | Kompatibel mit 40 µm Laser-Vias |
| Loetmaske | Fotoempfindliche schwarze LDI-Tinte | Dicke: 15–20 µm; Auflösung: 25 µm; Hitzebeständig bis 288 °C für 10 s | Verhindert, dass Flussmittel die Unebenheiten verunreinigen |
| Prozess | Materialstärke | Vorteile in FC | Einschränkungen |
|---|---|---|---|
| ENEPIG (stromloses Nickel, stromloses Palladium-Immersionsgold) | Ni 3–5 µm + Pd 0.05–0.1 µm + Au 0.03–0.05 µm | Kompatibel mit bleihaltigen/bleifreien Kontakten; geeignet zum Drahtbonden und Löten; beständig gegen Schwarznickel | Höchste Kosten; erfordert Palladium-Schichtdickenkontrolle |
| ENIG (Elektroloses Nickel-Immersionsgold) | Ni 3–5 µm + Au 0.05 µm | Geeignet für herkömmliche FC-BGA; Planheit < 0.3 µm | Gefahr der Bildung von schwarzem Nickel; neigt zur Versprödung bei Reflow-Löten mit hohem Bleigehalt |
| Chemisch Zinn (ImSn) | 0.8–1.2 µm | Kompatibel mit SAC-Bumps; dünne IMC-Grenzfläche; geringe Hohlraumbildung | Lagerfähigkeit: 6 Monate; neigt zur Bildung von Zinnwhiskern. |
| OSP (Organisches Konservierungsmittel für die Lötbarkeit) | 0.15–0.3 µm | Ideal für RF-FC-Hybridplatinen; minimaler Skin-Effekt-Verlust | Nicht beständig gegen wiederholte Hochtemperaturzyklen; beschränkt auf einmaliges Reflow-Löten. |
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